
光刻胶曝光设备
光刻胶曝光,显影分析设备
1、开放式专用曝光机
UVES-2000(i线,g线,h线,Krf, broad band)
VUVES-4700 (krf,Arf)
WEX-200MCE(全面曝光,接触式曝光)
2、光刻胶显影分析设备
RDA-800
光刻胶分析用曝光装置
(UVES-2000)(UVES-2000)
搭载了UV灯管光源、曝光光学镜头、曝光载台的光刻胶评价用的开放式专用曝光装置。
可以简单的测量光刻胶的敏感度。
曝光方式:step曝光
曝光位置:最多25处
曝光区域:10mm×10mm
对应波长:i线、g线、h线、Krf、broad band
滤波片:BDF(band pass filter)
用 途:Eth测量、 ABC参数计算、out gas测量
Eth测量(完全曝光的最小曝光量)
outgas测量(option)
苏州优维毕光电科技有限公司
苏州优维毕光电科技有限公司,提供172nm単一波长紫外光EUV整体清洗解决方案。
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